艺中，图案转移的准确性至关重要，任何微小的对准误差都可能导致电路功能失效。

精确的对准和图案重叠技术是研发中的难点。

公司在研发EBL光刻机时，已经解决了这个主要问题。

当然，随着技术的提升，要求更高。

原来的14nm EBL光刻机，大部分部件是可以应用在7nm EBL光刻机上面的，但有些零部件需要换成更先进的