“从1995年起，芯片制造工艺从0.5μm、0.35μm、0.25μm、0.18μm、0.15μm、0.13μm，发展到90nm、65nm、45nm、32nm、22nm、16nm、14nm，直至现在的10nm，芯片的制程工艺不断发展，集成度不断提高，……。”

“然而，传统的电子芯片终究走进了死胡同，摩尔定理已经开始失效，电子芯片制造碰到物理学上的瓶颈，随着晶体管尺寸的