v光刻机的光源中，euv光源是经过十几块镜片的各种折射，最后通过掩膜版上面的图案，以投影的方式在芯片上形成芯片的。

这也就是说，x光刻机不需要光掩膜版就能使用，同时它对透镜系统的要求很低，仅仅只对透镜表面光滑度有一点要求而已。

此外，euv光源在经过十几次光学镜片的折射后，原有光源的能量也会大大遭到削弱，原来的100，到最后能量可能只会剩下不到3，这也是为什么对euv光源的要求