nl纳米压印设备在能耗方面相比ev可以降低90。
同时由于转换率更好研发成本更低,比ev研发成本降低60左右,所以纳米压印也被视为目前最有可能替代ev实现7纳米以下制程的一项主流的光刻技术。
既然纳米压印技术有如此多的优点,为何从1995年提出以来,至今已经发展了二十年,一直没有实现真正的大规模应用呢?
主要有三大难点需要解决。
首先第一个难点就是模
335:降低芯片70%制造成本(1 / 13)
nl纳米压印设备在能耗方面相比ev可以降低90。
同时由于转换率更好研发成本更低,比ev研发成本降低60左右,所以纳米压印也被视为目前最有可能替代ev实现7纳米以下制程的一项主流的光刻技术。
既然纳米压印技术有如此多的优点,为何从1995年提出以来,至今已经发展了二十年,一直没有实现真正的大规模应用呢?
主要有三大难点需要解决。
首先第一个难点就是模