微电子系接下来两个课题。

其一，把光刻精度从现在的100纳米提高到80纳米，并试着增加光刻规模。

光刻精度提升之后，晶体管会变得更小，相同数量的晶体管耗电量也会下降，现在的图形控制芯片耗电量为42瓦，单纯提高精度至80纳米，不调整构架，保持相同数量晶体管时，最优解功耗会降低至27瓦。

精度提高之后才轮到规模，每次精度的提升都是换代，为了保证良品率，规模都要重新