光刻机，众人都茫然起来。光刻机又名研磨对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，也是目前芯片制造领域使用最多的制造技术工艺。光刻实际上是从英文Photolithography上翻译过来的，意思是用光来制作一个图形。在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘