长13.5nm的极紫外光为工作波长的投影光刻技术

因为更高的精度，可以大大减少工艺流程和复杂度。

所以如果EUV光刻技术能够成熟，并且投入量产，芯片的生产时间，将会大幅缩短，产品良率也会提高很多。

按照现在的预计，使用EUV技术的工厂，最快可以做到20多天出厂，时间只有传统光刻技术的四分之一。

但是目前EVU技术并没有成熟，仍然有多个关键问题没有解决。