光刻机又名：掩模对准曝光机，常用的光刻机是掩膜对准光刻，是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术锻造，简单地说，光刻机就是把工程师的设计‘刻印’在基底材料-硅片上，在2—3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管。

光刻机‘刻印’处理过的硅片再经过蚀刻机加工，通过化学反应，物理撞击作用移除废弃‘硅片’上的废弃部分，再经历某些封装工艺，神奇硅片材料变废为宝，变成