inf 时刻关注光刻机技术进展的孙健，如今还没有听说台积电的林博士在国际半导体研讨会上提出研发“沉浸式光刻”的设想。

“沉浸式光刻”就是在晶圆光刻胶上方加一层水，水的介质折射率是144，193n144≈134n，在不改变光刻机波长情况下，变相扩大了na，使得193n波长的能等效出134n的波长。

前世，林博士拿着这项“沉浸